ICP-QQQ を用いた 2 つのグレードの NMP 中の 溶存元素・粒子状元素の不純物分析

Pub.No. 5994-5365JAJP

ICP-MS/MS による N-メチル-2-ピロリドン（NMP）の元素および粒子の分析

品質管理（QC）の評価方法は、サポートする技術に後れを取らずに対応できることが望まれます。このような状況は、産業からの要望により ICP-MS の開発を推進する動きが特に半導体製造工場で見られていました。2012 年にトリプル四重極 ICP-MS（ICP-QQQ）が開発され、有機マトリックス中に低濃度で存在する硫黄、リン、塩素のような非金属の測定技術が向上しました。最近は、デバイスメーカーや高純度化学薬品のサプライヤーが、半導体製造の前工程で使用されるウェハ・フォトレジスト・現像液・エッチング液・洗浄液中の金属ナノ粒子（NP）のモニタリングを開始しました。この傾向は、線幅が細くなっている ICの開発において、半導体製造工程における無機不純物は溶存している金属濃度だけでなく金属ナノ粒子の管理も重要であることを示唆しています。

このアプリケーションノートでは、SEMI C33-0213（4）に準拠した NMP 中の 54 種類の溶存元素の定量分析、および14 元素の NP のモニタリング結果を用いて、Agilent 8900 トリプル四重極 ICP-MS の性能を紹介します。分析した NMP のグレードは、電子工業用グレード（EL）と、新しい超高純度グレード（SP）の ２ 種類です。

◆ Agilent 8900 トリプル四重極 ICP-MS の詳細はこちらからご覧いただけます。

分野	半導体/電子材料
キーワード	semiconductor reagent impurities; NMP testing; NMP metal impurities
掲載年月	2023/11
ページ数	10ページ （PDFファイルサイズ 1.18MB）

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