Pub.No. 5994-9062JAJP
半導体試薬の分析および金属ベース材料の特性解析の両方において、微量金属汚染物質の管理は不可欠です。硝酸(HNO3)や硫酸(H2 SO4)などの高純度化学物質、および高純度金属においては、優れた堅牢性と再現性を維持しながら、ppt 未満の検出限界(DL)を達成できる分析ワークフローが要求されます。これらのニーズに応えるために、デュアルセルシステム(DCS) およびオプションの m-レンズイオン光学系を搭載した Agilent 9500 トリプル四重極 ICP-MS(ICP-QQQ)は、ホットプラズマ条件下でも低バックグラウンドと信頼性の高い性能を実現する、きわめて安定したプラットフォームを提供します。
| 分野 | 半導体/電子材料 |
|---|---|
| キーワード | 半導体試薬分析、 ICP-QQQ、 微量金属、 ppt検出限界、 高純度材料 |
| 掲載年月 | 2026/06 |
| ページ数 | 4ページ (PDFファイルサイズ 249kB) |