Agilent 8900 ICP-QQQ と反応性セルガスによる高濃度金属 マトリックス中の Pt、Ag、Cd、Ti 分析における干渉除去

Pub.No. 5994-8841JAJP

ICP-MS/MS によるプリカーサ材料の微量元素分析

プリカーサ材料は集積回路（IC）製造の基礎となるものです。原子層成長法（ALD）では、プリカーサ材料により半導体基板上で極薄膜を制御しながら成長させることができます。これは高度な機器構造のスケーリングに必須の機能です。プリカーサ中に微量の金属不純物が含まれるだけで膜の性能やデバイスの歩留まりが低下するため、サプライヤもメーカーもこれらの材料を常に分析しています。誘導結合プラズマ質量分析（ICP-MS）は高感度で多元素分析が可能であるため、半導体材料中の元素不純物評価の業界標準となっています。

トリプル四重極 ICP-MS（ICP-QQQ または ICP-MS/MS）とコリジョンリアクション（CRC）ガスを組み合わせると、感度を下げずに干渉を選択的に除去または回避して、これらの制限を克服できます。Agilent

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