無償セミナー

会場参加： アジレント 半導体ユーザーミーティング 2026

ご注意：このページは「会場参加者用」の申し込みページです。

このたび「アジレント 半導体ユーザミーティング 2026」を開催する運びとなりました。本ユーザミーティングでは、グローバル市場の最新動向に加え、オルガノ株式会社様、ローツェイアス株式会社様など業界をリードされる企業様による特別講演、さらにアジレントより極微量金属分析、PFAS 分析、ネットワーク・データ活用、そして ICP‑MS 40 周年を迎える技術革新など、研究開発および生産管理に直結する内容を幅広く取り上げます。 また会場では、アプリケーションケミストとの直接対話、全プログラムの聴講、情報交換会での交流機会をご活用いただけます。 ご多忙中とは存じますが、ぜひご臨席賜りますよう心よりお願い申し上げます。

【ご案内】本セミナーは、会場開催とオンライン配信によるハイブリッド形式で実施いたします。

ウェビナー参加をご希望の方はウェビナーお申し込みページよりお申し込みください。

開催概要


日程 2026 年  3 月 17 日（火）
時間 1. 会場開催
　  セミナー　13:00 – 17:20
　  情報交換会　17:30 – 18:55

2. オンライン配信
　  ウェビナー　14:35 – 17:20

本セミナーは、会場開催とオンライン配信によるハイブリッド形式で実施いたします。オンライン配信（ウェビナー）は一部講演のみの配信となりますので、あらかじめご了承ください。

ウェビナー参加をご希望の方はウェビナーお申し込みページよりお申し込みください。
定員 セミナー（会場参加）100 名
参加対象
  • アジレント ICP-MS で極微量分析を行っている方・興味をお持ちの方
  • アジレント分析製品で半導体関連材料の不純物分析等をおこなっている方・ご興味をお持ちの方
  • 今後 アジレント ICP-MS で極微量分析を行う予定の方
参加費 無料
開催方法 1. 会場参加（対面）
2. ブラウザを利用したオンラインセミナー（ウェビナー、使用ツール：ON24）
セミナー会場 野村シティコンファレンス日本橋　6階 大ホール
会場参加のお申し込みはこちら

プログラム

12:00 -

セミナー会場 受付開始
13:00 - 13:05 開会のご挨拶
13:05 - 13:30

「半導体のグローバルトレンドと ICP-MS の未来の方向性」

アジレント・テクノロジー株式会社　 (英語での講演、通訳付き)　
13:30 - 14:00

「特別講演 1: ICP-MS バックグラウンドを極限まで低減する超純水
　― ピューリック ωⅡ が実現する安定・高感度分析」

オルガノ株式会社　機器商品部 営業企画グループ　加藤 綾乃 様
14:50 - 14:20

「特別講演 2: 半導体分野における極微量金属分析の新しいアプリケーションのご紹介」

ローツェイアス株式会社　川端 克彦 様 (動画上映)
14:20 - 14:35 休憩
14:35 -

ウェビナー配信開始（会場＆オンラインのハイブリッド）
14:35 - 14:40 ご挨拶
14:40 - 15:10

「ICP-QQQ による金属マトリクス試料中の ppt オーダーの Na、K の定量分析」

アジレント・テクノロジー株式会社　尾形 洋昭
15:10 - 15:25

「PFAS 分析の最前線」

アジレント・テクノロジー株式会社　今野 靖
15:25 - 15:45

「分析作業効率・精度管理・データ改ざんの 課題解決」

アジレント・テクノロジー株式会社　眞島 宏之
15:45 - 15:55

休憩
15:55 - 16:15

「半導体関連ソリューションのご紹介」

アジレント・テクノロジー株式会社　宮下 和彦
16:15 - 17:15

「Agilent ICP-MS 40 周年を迎える技術革新」

アジレント・テクノロジー株式会社　溝渕 勝男
17:15 - 17:20 閉会のご挨拶　（ウェビナー配信終了）
17:25 - 18:55

情報交換会（会場：5 階 大ホール）
会場参加のお申し込みはこちら

お申込みの流れ

  • 「申込はこちら」ボタンをクリックすると、セミナー申込フォームが開きます。
  • 参加されたいセミナー日を選択のうえ、お客様情報・アンケートを入力し「登録」をクリックしてください。

お問い合わせ

イベント担当宛メール

無償イベント

関連情報