トリプル四重極 ICP-MS による半導体最新事例をご紹介するセミナーを開催いたします。
アジレントは2012年、トリプル四重極 ICP-MS を世界で初めて発売して以来、様々な形でお客様に最新ソリューションを提供してきました。今回はオンラインセミナーで皆様にお届けいたします。 特別講演として、株式会社イアス 代表取締役 川端克彦様に「半導体分野におけるオンラインICP-MS 分析」と題し、ご講演いただきます。
皆様のご参加を心よりお待ち申し上げております。
特別講演
「半導体分野におけるオンラインICP-MS 分析」
株式会社イアス 代表取締役 川端 克彦 様
お申込みの流れ
- 下記の「参加申込はこちら」ボタンをクリックすると、セミナー申込フォームが開きます。
- お客様情報をご入力いただき、参加希望のセミナー名・参加日程を選択のうえ、お申込ください。
※9月29日と10月7日の2日に分けての開催となります。両日とも参加希望の場合は2日ともお申込みください。1日のみの参加も可能です
- 後日、ご登録いただいたメールアドレスに、ウェビナー視聴登録用URLをお知らせします。URLをクリックのうえ、
ログインID：ご登録のメールアドレス
パスワード：ご自身で設定
でご登録ください。
- ご登録後、当日視聴用のURLのご案内をメールでお送りさせていただきます。
- 開催当日については、ウェビナー開始15分前に、ウェビナー視聴用URLよりログインのうえ、ご参加ください。
※ご視聴前の視聴テスト、お申込みに際してのよくある問題はこちらをご覧ください。
9月29日（火）セミナースケジュール
| 13:45 |
配信開始
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| 14:00 – 14:05 |
開会の挨拶
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| 14:05 – 14:45 |
特別講演
半導体分野におけるオンラインICP-MS分析
株式会社イアス 代表取締役 川端 克彦 様
半導体分野における極微量金属不純物分析として、ICP-MSを用いたオンライン分析システムについてご紹介します。具体的には、ウェーハ、薬液、ガス分析への顧客からのニーズおよび運用方法についてご紹介します。
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| 14:45 – 15:00 |
休憩
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| 15:00 – 15:40 |
Single Particle ICP-MSによるFeナノ粒子の分析
アジレント・テクノロジー株式会社
半導体製造プロセスで使用される薬液における不純物元素の濃度管理が年々厳しくなっている中、新たな分析内容として、金属ナノ粒子測定のニーズが高まっています。そこで特に重要な管理元素の１つであるFeに注目し、通常の定量分析の手法では困難であったFe3O4 15nm粒子をppqレベルの濃度から検出可能になった詳細をご紹介します。
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10月7日（水）セミナースケジュール
| 13:45 |
配信開始
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| 14:00 – 14:05 |
開会の挨拶
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| 14:05 – 14:55 |
ICP-QQQを用いた有機溶媒中の塩素分析と反応機構の考察
アジレント・テクノロジー株式会社
ICP-QQQを用いると従来困難であったアプリケーションも解決できる事例が多くなってきていますが、今回はその一つである有機溶媒中の塩素分析を取り上げ、反応機構ならびに分析上の注意点等をご紹介いたします。
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| 14:55 – 15:10 |
休憩
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| 15:10 – 15:40 |
アジレント無機分析装置をはじめ半導体関連ソリューションのご紹介
アジレント・テクノロジー株式会社
原子吸光からICP-OES、ICP-MSまで幅広い無機分析装置によるソリューションの紹介をはじめ、アジレントの幅広い製品による半導体関連ソリューションをご紹介します。
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お問い合わせ
アジレント・テクノロジー株式会社マーケティングサービス部セミナー担当
電話：0120-477-111 e-mail：lsca_seminar@agilent.com
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