ICP-QQQ による高ケイ素マトリックスサンプル中の超微量不純物の分析

Pub.No. 5994-2890JAJP

ICP-QQQ による高ケイ素マトリックスサンプル中の超微量不純物の分析

ICP-QQQ による高ケイ素マトリックスサンプル中の超微量不純物の分析
Agilent 8900 ICP-QQQ と m-レンズの堅牢性を、10 および 100 ppm Si を含む 2 種類の分解ケイ素サンプル中の 38 元素の測定において示しました。オプションの m-レンズにより、EIE のバックグラウンド信号が確実に最小限に抑えられており、マトリックス耐性のある強力なプラズマ条件での ppt レベルにおけるすべての元素の測定が可能になりました。

分野	半導体/電子材料
キーワード	semicon; wafer fab contamination; silicon impurities; wafer impurities; m lens; m-lens
掲載年月	2021/04
ページ数	5ページ （PDFファイルサイズ 748kB）

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（PDF 749KB）