ケイ素サンプル中のリンおよびチタンの検出下限の改善

Pub.No. 5991-2466JAJP

Agilent 8800 トリプル四重極 ICP-MS を用いた、ケイ素サンプル中のリンおよびチタンの検出下限の改善

ここ 30 年間で、半導体デバイス製造における金属不純物の汚染管理はとても重要になってきています。1983 年から 1985 年までの間に、初めて商業用 ICP-MS が売り出されました。これらの初代 ICP-MS では、希土類元素、ウランやトリウムなど干渉を受けない元素においては十分な感度を得られましたが、カリウムやカルシウム、塩素や鉄の低レベルの測定は、アルゴン起因干渉物のバックグランドが高すぎて不可能でした。

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