高マトリクス導入アクセサリを搭載した Agilent 7500cx ICP-MS による高純度金属の分析

高マトリクス導入アクセサリを搭載した Agilent 7500cx ICP-MS による高純度金属の分析

Pub.No. 5989-8095JAJP

【要旨】

高純度金属や電子機器中の微量汚染物質を直接分析するために、高マトリクス導入 (HMI ) アクセサリを搭載したAgilent 7500cx による新しいメソッドを開発しました。特定有害物質使用制限指令 (RoHS) や廃車指令 (ELV) などの加工品中の有害物質含有量を規定する環境指令に従い、化学組成と濃度を変えた試薬を用いてサンプルを調製しました。HMI により、高マトリクスサンプルを優れた精度で長期にわたり安定的に直接分析できるため、希釈の必要がなくなります。

分野 金属、鉱業環境一般化学(スペシャリティケミカル)
キーワード 高純度金属、微量汚染物質、高マトリクス導入 (HMI )、Agilent 7500cx、特定有害物質使用制限指令 (RoHS)、廃車指令 (ELV) 、5989-8095JAJP 
掲載年月 2008/10
ページ数 6ページ (PDFファイルサイズ 314kB)

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使用分析装置
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Agilent 7500cx ICP-MS
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分析結果の一例

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100 個のサンプルにわたる内部標準シグナルの安定性
HMI なし(左)、HMI 付き(右)