レーザーアブレーションICP-MSによる電子セラミックスの分析

Pub.No. 5988-8915JAJP

レーザーアブレーションICP-MSによる電子セラミックスの分析

レーザーアブレーションICP-MSによる電子セラミックスの分析

分野 一般化学(スペシャリティケミカル)半導体/電子材料
キーワード ICP-MS、7500、レーザー、la-icp-ms、la、セラミックス、5988-8915JAJP  
掲載年月 2003/08
ページ数 7ページ (PDFファイルサイズ 368kB)

アプリケーションノートを見る
(PDF 368KB)

使用分析装置

使用分析装置 イメージ画像

ICP-MS

見積フォームを開く

分析結果の一例

分析結果の一例 イメージ画像クリックして拡大表示ができます。

フェライト試料AのLA-ICP-MSによる半定量結果と
XRF分析結果の比較