レーザーアブレーションICP-MSによる電子セラミックスの分析

レーザーアブレーションICP-MSによる電子セラミックスの分析

Pub.No. 5988-8915JAJP

【要旨】

レーザーアブレーションICP-MSによる電子セラミックスの分析

分野 一般化学(スペシャリティケミカル)半導体/電子材料
キーワード ICP-MS、7500、レーザー、la-icp-ms、la、セラミックス、5988-8915JAJP  
掲載年月 2003/08
ページ数 7ページ (PDFファイルサイズ 368kB)

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分析結果の一例

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フェライト試料AのLA-ICP-MSによる半定量結果と
XRF分析結果の比較