電子工業関連試料の分析-硫酸-

電子工業関連試料の分析-硫酸-

Pub.No. TI 15F1D1-008

【要旨】

"電子工業関連分野、特に半導体製造過程では、極微量の不純物が製品性能に大きな影響を与えるため、不純物の混入を極力避ける必要があります。 硫酸は半導体プロセスの洗浄工程で用いられる製品の1つであり、その役割から考えて品質管理が極めて重要となります。硫酸をICP-MSで測定する場合、他の酸に比べて高沸点なため、高濃度の硫酸を導入するとプラズマ中で完全に分解されにくく、信号が不安定になtったり、またインターフェースに硫酸が付着してインターフェースの寿命を縮める原因ともなります。そこで、従来硫酸の測定をするためには、他の酸に比べて高倍率の希釈(100倍以上)が必要でした。
しかし、希釈すれば極微量元素の分析に十分な感度が得られなくなる可能性があります。
HP4500ICP-MS用のネブライザ、マイクロコンセントリックネブライザ(MCN)は、この問題を解決することができます。"

分野 半導体/電子材料
キーワード 硫酸、不純物、半導体、極微量元素、TI 15F1D1-008 
掲載年月 2000/12
ページ数 2ページ (PDFファイルサイズ 126kB)

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使用分析装置
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ICP-MS
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分析結果の一例

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硫酸(10%)の定性スペクトル

分析結果の一例

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硫酸定量結果