spICP-MS による有機溶媒中の15 nm 鉄ナノ粒子分析

spICP-MS による有機溶媒中の15 nm 鉄ナノ粒子分析

Pub.No. 5994-1747JAJP

【要旨】

半導体機器の製造においては、工程に用いられる試薬にわずかな量の不純物があるだけで、生産高や製品の信頼性が損なわれる可能性があります。金属ナノ粒子(NP)、なかでも Fe NP によって、ウエハ表面の欠陥が引き起こされる可能性があるという認識が高まりつつあります。単一粒子ICP-MS(spICP-MS)は、半導体プロセス試薬をはじめとするさまざまなサンプルの NP 含量測定に多く用いられる、信頼できるツールです。 8900 spICP-MS メソッドは、高純度溶媒中の低濃度微粒子のモニタリングという半導体業界の新たなニーズに応えます。

分野 半導体/電子材料
キーワード ICP-MS organic; nanoparticles; iron nanoparticles; iron contamination; solvent impurities; solvent contamination; semiconductor; wafer fab 
掲載年月 2020/07
ページ数 2ページ (PDFファイルサイズ 582kB)

ログイン会員限定