イオン源

直交型スプレーにより性能と信頼性を向上

アジレントが特許を持つイオン源の直交型スプレー設計には、数多くの類似品がありますが、アジレントのものと同等の製品はありません。サンプリングキャピラリの軸と直交する形で噴霧(スプレー)することで、溶媒液滴の不完全な乾燥から生じるノイズを抑えることができます。また、サンプリングキャピラリとイオンレンズが清潔に保たれます。ネブライザの位置は固定されているので、流量や溶媒組成を変更する必要があるメソッドでも、面倒な位置調整は必要ありません。