電子工業関連試料の分析-過酸化水素-
Pub.No. TI 15F1D1-015
【要旨】
"過酸化水素水は、半導体プロセス中でシリコンウェハ表面上のパーティクル、金属、有機物などのあらゆるコンタミネーションを洗浄するために用いられています。このため、洗浄溶液から逆にウェハがコンタミネーションを受けないように、過酸化水素水中の不純物を最小限に抑える必要があります。
ICP-MSは近年、高感度で処理能力が高い多元素同時分析法として普及し、SEMI（Semiconductor Equipment and Material International）標準で規定されている試薬中の微量元素の分析方法として推奨されています。"
| ●分野 |
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一般化学（スペシャリティケミカル）、半導体/電子材料 |
| ●キーワード |
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過酸化水素水、多元素同時分析法、ICP-MS、TI 15F1D1-015 |
| ●掲載年月 |
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2000/12 |
| ●ページ数 |
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2ページ （PDFファイルサイズ 161kB） |
使用分析装置 |
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ICP-MS |
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分析結果の一例 |
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分析条件 |
分析結果の一例 |
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30％過酸化水素水分析結果 |
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