Pub.No. TI 15F1D1-009
硝酸、フッ酸は電子工業関連産業、特に半導体製造過程で極めて多く用いられます。したがって、ライン上の製品へのコンタミネーションを避けるために、その不純物レベルを極力低く管理することが重要です。
また、硝酸、フッ酸はシリコンウェハなどの個体サンプルを分析する際の前処理時にも一般的によく用いられますので、最終的なサンプルの液性が高濃度の硝酸あるいはフッ酸ということも多くなります。
HP4500ICP-MSを用いると、通常の導入系を用いて高濃度の硝酸を導入し、微量不純物の測定を行うことができます。
分野 | 半導体/電子材料 |
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キーワード | 硝酸、フッ酸、不純物、TI 15F1D1-009 |
掲載年月 | 2000/12 |
ページ数 | 6ページ (PDFファイルサイズ 307kB) |