改正 RoHS 指令により、フタル酸エステル類4物質の使用が制限されます。
既に規制されている臭素系難燃剤においては、蛍光X線（XRF）による簡便なスクリーニング法があり、フタル酸エステル類についてもそれと同レベルの簡便な分析法が望まれています。
Agilent フタル酸エステルスクリーナーは、初めての方でも樹脂中フタル酸エステルのスクリーニングをすぐに始めることができます。
標準品は産総研の認証値付きフタル酸エステル類を含むポリ塩化ビニル樹脂
産業技術総合研究所認証標準物質
サンプリングツールキット
フタレートフリー
石英ウール
標準品/試料はカッターで削り取り、試料カップに精密天秤で秤取ります。試料の飛散防止のため、石英ウールを試料の上に載せます。
フロンティア・ラボ
オートショット・サンプラAS-1020E&マルチショット・パイロライザ EGA/PY-3030D
・48サンプルの連続自動分析
| GC-MS-201609NK-002 | Agilent GC/MS フタル酸エステルスクリーナー Agilent GC/MS フタル酸エステル スクリーナーは、前処理の省略あるいは簡素化、ハイスループット、容易なデータ解析、メンテナンス性の向上を目的として、開発されました。その結果、前処理が不要で試料導入が自動化できるパイロライザ、高速カラム、MassHunter Quant 「化合物クロマトグラムの一覧」 ソフトウェアにより、ハイスループット化が可能となり、データ解析も容易なシステムが完成しました。このシステムでは、アジレント特許技術 JetClean により、イオン源のメンテナンス頻度の低減が可能です。 |
| 5991-7177JAJP | Agilent Intuvo 9000 GC と MSDによるフタル酸エステル類の分析 Agilent Intuvo 9000 GC システムと、HES を搭載した MSD および 30 m の Agilent Intuvo HP-5ms ウルトライナートカラムを組み合わせることにより、200 ppb のフタレート標準を約 120 回注入した後においても、ピーク形状と面積レスポンスは一貫していました。この結果は、比較的低濃度のさまざまなフタレートを分析する際の堅牢で信頼性の高い測定ができることを示しています。 |
| GC-MS-201503AZ-001 | Self-Cleaning イオン源を用いた、7890B/5977A でのフタル酸エステル類の分析 Self-Cleaning イオン源という画期的な技術をフタル酸エステル類の分析に適用した分析例を紹介します。Self-Cleaning イオン源を使用することにより、フタル酸ビス (2-エチルヘキシル) (DEHP) を含むフタル酸エステル類、アジピン酸エステル類において安定したレスポンスが保たれるとともに、直線性が向上しました。 また、Self-Cleaning により常にイオン源を安定な状態に保つことが可能なため、イオン源洗浄の手間を省き、分析のダウンタイムを最小限にすることが可能です。 |
| GC-MS-201503NK-003 | RoHS 指令フタル酸エステル類の分析 （サーマルセパレーションプローブ） RoHS 指令における制限対象物質に4種類のフタル酸エステル（最大許容濃度は 0.1 wt % （案）） が追加される予定になっています （2015年2月現在）。本アプリケーションノートでは、安価 （約100万円） でかつ試料を簡便な前処理で測定可能なサーマルセパレーションプローブを用いる GC/MS法について述べます。 |
| GC-MS-201503NK-002 | RoHS 指令フタル酸エステル類の分析 （パイロライザ） RoHS 指令における制限対象物質に 4 種類のフタル酸エステル（最大許容濃度は 0.1 wt % （案））が追加される予定になっています （2015年2月現在）。本アプリケーションノートでは、試料を簡便な前処理で測定可能なパイロライザ GC/MS について述べます。 |
| GC-MS-201503NK-001 | RoHS 指令フタル酸エステル類の分析 （溶媒抽出） RoHS 指令における制限対象物質に4種類のフタル酸エステル（最大許容濃度は 0.1 wt % （案）） が追加される予定になっています （2015年2月現在）。本アプリケーションノートでは、安価 （約100万円） でかつ試料を簡便な前処理で測定可能なサーマルセパレーションプローブを用いる GC/MS法について述べます。 |
| GC-MS-201510NK-002 | パイロライザ GC/MS 分析における Self-Cleaning イオン源の検証 Self-Cleaning イオン源は、測定中に水素を導入し継続的にクリーニングを行うため、イオン源表面を常にクリーンな状態に保つことができ、その結果、測定の安定性が改善することが報告されています。今回は、イオン源に水素を導入することによる化合物の還元によるマススペクトルの変化の有無などを検証しました。Self-Cleaning 環境下での測定は、それを使用しない場合とほぼ同等の結果が得られました。 |
| GC-MS-201909HO-001 | 熱抽出 - GC/MS を用いた高分子材料中のフタル酸 エステル分析における代替可塑剤 [トリメリット酸トリス（2 - エチルヘキシル）：TOTM ] の影響 |
| GC-MS-201903HO-001 | キャリアガスに窒素を用いた熱抽出-GC/MS によるフタル酸エステルの分析 |
信頼性が高いアジレントの原子吸光、ICP-OES、ICP-MS、UV-Vis により RoHS に対応した分析を迅速に精度よく実現します。
| BCR-680 | BCR-681 | |||
|---|---|---|---|---|
| 元素 | 保証値 | 分析値 | 保証値 | 分析値 |
| Cd | 140.8 ±2.5 | 140.7 | 21.7 ±0.7 | 22.1 |
| Cr | 114.6 ±2.6 | 115.4 | 17.7 ±0.6 | 18.1 |
| Pb | 107.6 ±2.8 | 109.8 | 13.8 ±0.7 | 13.9 |
ICP-OES によるポリエチレン中の Pb、Cd、Cr の分析
試料：欧州標準 Certified Reference Material BCR-680 および BCR-681
